Deutsche und chinesische Gebrauchsmuster

Deutsche und chinesische Gebrauchsmuster - 
Die gefährlichsten IP-Waffen in Angriff und Verteidigung

ZIEL DER VERANSTALTUNG

Dieses Online-Seminar vermittelt Ihnen, wie Sie das deutsche und chinesische Gebrauchsmustersystem strategisch maximal effizient einsetzen können. Das notwendige Wissen wird anhand einer Vielzahl von Case Studies vermittelt, die alle tatsächlichen Fällen aus der Praxis nachgebildet sind. Zugleich erhalten Sie einen aktuellen Überblick über die zentralen Entwicklungen der Rechtsprechung zu Offenbarung, Schutzfähigkeit und Schutzbereich.
 

THEMEN

• Gebrauchsmusterverletzungsverfahren: der effizientere Patentverletzungsprozess?
• Patent- und Gebrauchsmusterverletzungsprozess: wie kann man das Zusammenspiel optimal nutzen?
• Gebrauchsmuster und einstweilige Verfügung
• Abzweigung aus PCT/EP-Anmeldungen: welche Optionen bietet der (neue) Offenbarungsbegriff des BGH?
• Löschungsverfahren: Überraschungen vermeiden
   

TEILNEHMERKREIS

Sie sind als Mitarbeiter einer Rechts-, IP-, Patent- oder F&E-Abteilung zuständig bei Verletzungen technischer Schutzrechte und möchten Ihr Arsenal um eine weitere IP-Waffe ergänzen? Oder beraten Sie als Rechtsanwalt oder Patentanwalt auf diesem Feld? Dann ist dies das richtige IP-Online Seminar für Sie!

IHRE REFERENTEN
Dr. Mathias Zigann, Vorsitzender Richter, Landgericht München I
Dr. Oliver Pfaffenzeller, Lead IP Counsel, Siemens AG, München
Dr. Tobias Wuttke, Partner/Fachanwalt für Gewerblichen Rechtsschutz, Meissner Bolte, München

TERMIN/VERANSTALTUNGSORT
Montag, 15. November 2021 (13:00 - 17:15 Uhr) | Online
Dienstag, 16. November 2021 (09:00 - 13:15 Uhr) | Online

ANMELDUNG & WEITERE INFORMATIONEN

www.forum-institut.de